ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА ВУ-1А
Вакуумная установка ВУ-1А
Установка предназначена для нанесения покрытий на оптические детали методом резистивного и электронно-лучевого испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным контролем толщины покрытия.
Установка обеспечивает возможность нанесения многослойных ахроматических покрытий на деталях серийной продукции, а также металлических, однослойных просветляющих, интерференционных зеркальных, фильтрующих и других для различных областей спектра.
Установка может эксплуатироваться в закрытых сухих помещениях промышленных объектов категории 4.2. по ГОСТ 15150-69 и климатических условиях:
температура окружающей среды от 170С до 270С; относительная влажность от 40 до 75%;
атмосферное давление от 8,4.104 до 10,6.104Па ( 630 до 780 мм.рт.ст.)
В состав установки входит:
-откачной пост (с высоковакуумными откачными средствами, вакуумной системой и пневмо-гидроаппаратурой);
-форвакуумный агрегат;
-электрооборудование (с двумя стойками управления- управление вакуумной системой и управление технологическими источниками).
Технические характеристики
Давление в камере при одновременном нагреве ее до 3200С и при охлаждении всех ловушек жидким азотом, Па 4х10-4
Время достижения давления 4.10-4Па ,мин ,не более 30
Регулируемая температура нагрева в камере, С0 от 100 до 320
Количество резистивных испарителей, шт. 2
Количество электронно-лучевых испарителей, шт. 1
Вместимость деталей размерами, шт.
диаметром 40 мм 70
диаметром 70 мм 6
Напряжение источника питания тлеющего разряда ионной очистки на холостом ходу, В от 2175± 20% до 4350± 20%
Максимальный ток тлеющего разряда ионной очистки А, не более 0,4
Максимально допустимый ток резистивного испарителя при напряжении на трансформаторах А, не более:
12В 300
24В 150
Максимальный ток электронно-лучевого испарителя, мА 480±20
Мощность , потребляемая установкой, кВт, не более 20
Масса установки, кг, не более 1 900
Площадь, занимаемая установкой, м2, не более 6